光刻机是什么

光刻机，又称掩模对准曝光机，是微电子制造过程中不可或缺的关键设备。它的核心功能是通过光刻技术，将掩模版上的精细图形复制到硅片上，形成电路或器件的结构。简单来说，光刻就是通过光在光刻胶上进行图案化的过程，将硅片表面均匀涂上光刻胶，然后将掩模上的图案转移到胶层上，形成临时的“模板”，再进行后续的刻蚀等步骤，以实现微小器件的制造。

现代光刻工艺涉及多个复杂步骤，包括硅片清洗、涂底、光刻胶涂布、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀和检测等，每个环节都需要精密控制。在当前光学光刻技术面临挑战时，电子束光刻技术显示出其潜力，它可能在未来的混合光刻技术中扮演重要角色，特别是在实现10纳米级精度时。

电子束曝光技术作为微电子和微细加工技术进步的关键，不仅在光刻领域有广泛应用，而且在掩模制作中也占据核心地位。它对于微电子、微光学和微机械等微系统微细加工有着广阔的前景。因此，光刻机的发展与电子束曝光技术的进步密切相关。